光刻机工作原理视频

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传统半导体芯片性能主要取决于多层晶体管的密集堆叠，如今随着新兴的人工智能，发展芯片所需要的成本越发高昂。目前，高端芯片的制作需要使用光刻机，其工作原理是使用一束强光通过类似于定焦摄像头的透镜系统，将光线聚焦在一个晶圆上。晶圆是一种由硅等材料制成的圆形片，上面后面会介绍。

最近清华大学的EUV光刻机方案备受关注，尤其是方案中的光源系统最为核心，公司是否有关注该方案？公司目前已交付的半导体光刻机光源系统原理是否相近？可以满足相关技术要求？股民留言板是中国财富网打造的网上投资者工作平台。旨在帮助上市公司和投资者加强互动交流的桥梁是什么。

采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。去年10月中旬，佳能公司宣布推出基于纳米压印的FPA-1200NZ2C,佳能表示，该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。佳能表示，这套设备的工作原理和ASML的光刻机不同，并不利用光学图是什么。

“EUV光刻机是全人类智慧的结晶，仅凭一个国家的力量，很难造得出来。”一年前，中国院士吴汉明在科技大会上发出了与ASML公司“中国即便是拿到了EUV光刻机图纸，也造不出来”类似的感慨。光刻机是芯片制造过程中必不可少的关键设备，工作原理与照相机差不多，就是利用光源能说完了。